- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/035 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques avec des liants les liants étant des polyuréthanes
Détention brevets de la classe G03F 7/035
Brevets de cette classe: 113
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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Covestro Deutschland AG | 2429 |
26 |
FUJIFILM Corporation | 27102 |
18 |
LG Chem, Ltd. | 17205 |
8 |
Kaneka Corporation | 4445 |
7 |
Bayer MaterialScience AG | 874 |
6 |
Eastman Kodak Company | 3444 |
4 |
Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. | 219 |
4 |
Bayer Intellectual Property GmbH | 2671 |
3 |
Taiyo Holdings Co., Ltd. | 221 |
3 |
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1481 |
3 |
Showa Denko K.K. | 2539 |
2 |
Korea Advanced Institute of Science and Technology | 3906 |
2 |
Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1822 |
2 |
Rohm and Haas Electronic Materials LLC | 637 |
2 |
Toyobo Co., Ltd. | 2286 |
2 |
MacDermid Graphics Solutions, LLC | 125 |
2 |
Evonik Operations GmbH | 3879 |
2 |
BASF SE | 19740 |
1 |
Merck Patent GmbH | 5909 |
1 |
Samsung SDI Co., Ltd. | 6671 |
1 |
Autres propriétaires | 14 |